- そもそもASMLって半導体メーカーとしか知らなかった人
- ASMLの世界規模をもっと知りたいと思っている人
- 今後の半導体の市場の動向に関して更に知りたいと思っている人
に向けた記事になっています。
ぜひ最後までご覧いただけたら幸いです。
昨今、半導体の需要が世界的に拡大して、大手メーカーは供給不足で工場が休止する自体に追い込まれていると話題になっています。土偶です。
さて、半導体メーカーと言えば台湾セミコンダクターが有名ですが、ASMLも世界規模ではかなりの規模を誇っているのでしょうか？リソグラフィー装置とは？
ASMLホールディングはオランダの半導体製造装置メーカー。
子会社を通じて半導体産業向けリソグラフィー装置の開発、製造、販売、関連サービスを世界的に手掛ける。
リソグラフィーシステム、ステップ・アンド・スキャンシステム「TWINSCAN｣や｢PAS5500｣シリーズ、極端紫外線リソグラフィー装置、超精密光学分野の部品などを取り扱う。
企業概要
社名：ASML Holding NV
所在地：オランダ フェルドホーフェン（16ヶ国に60以上の拠点）
創立：1984 年（オランダのフィリップスと ASM インターナショナルの合弁会社として設立）
上場市場：NASDAQ（95 年に米ナスダックとユーロネクストに上場）
カテゴリ：IT & Communications
CEO：Peter T. F. M. Wennink
従業員数：28,073人
公式HP：www.asml.com
マイクロチップの製造に欠かせない複雑なリソグラフィーシステムを製造。
世界中の主な半導体メーカーTSMC、インテル、サムスン電子など半導体製造トップ企業の80%以上がASMLの顧客。（露光装置の売上高が世界シェア8割）
露光装置主流の ArF液浸リソグラフィで首位。
ASMLはAdvanced Semiconductor Materials Lithographyの頭文字。
半導体は、５G・ビッグデータ・AI・IoT・自動運転・ロボティクス・スマートシティ・DX等のデジタル社会
を支える重要基盤であり、安全保障にも直結する死活的に重要な戦略技術。
主な製品
1984年以来、この小さな規模で大きな飛躍を遂げてきた。
リソグラフィーシステム
ASMLの技術では、ハードウェアとソフトウェアが出会い、シリコン上にパターンを大量生産するための包括的なアプローチを提供。
1台あたり1億5000万ドル(約166億円)。トランプ政権は2019年にASMLのフォトリソグラフィー装置を中国に出荷しないようにオランダ政府に働きかけることに成功。
最先端のチップを製造するためにはこのASMLのフォトリソグラフィー装置が必要であり、この装置はASMLでしか作られていません。
中国が同様の装置を自前で作るには少なくともあと10年はかかると考えられています。
中国の立場からすると、これは悔しいことです
ジョージタウン大学・Centre for Security and Emerging Technologyの調査アナリストであるウィル・ハント氏
ASMLは2020年では、世界唯一の極端紫外線リソグラフィ（EUVL）装置メーカーである。
半導体を製造する際に、基板に光や電子ビームなどで回路パターンを転写する手法のこと。特に露光装置（ステッパ）を指してリソグラフィと呼ぶことも。
感光性の物質を部分的に露光することで、何らかのパターンを生成する技術。半導体、集積回路、印刷用の版を作成するのに用いられる。
露光装置は、ウエハー上に半導体の回路パターンを転写する工程で使いますが、7ナノメートルの転写は光源波長が非常に短いEUVが必要不可欠。
台湾セミコンダクターの売上の主力は7ナノメートルのチップである。
マイクロチップを製造していない
ASMLは、マイクロチップメーカーがチップを大量生産するために使用するフォトリソグラフィーマシンを製造している。
IDMとファウンドリとファブレス半導体企業
IntelやSamsungなどの統合型デバイスメーカー（IDM）は、チップの設計と製造の両方を行っている。
その一方で、ファウンドリは、他社との契約に基づいてチップを製造する会社である。
半導体産業において、実際に半導体デバイスを生産する工場のこと。
ファブレスやファブライトの半導体メーカーが設計・開発した半導体チップを設計データに沿って製造する。
TSMC、GLOBALFOUNDRIES、UMCは、このタイプのチップメーカー。
また、チップメーカーは、Qualcomm、Nvidia、AMDなどの「ファブレス半導体企業」であり、チップ設計のみに焦点を当てることで、生産設備の構築と保守にかかる高額なコストを回避している。
3ナノ時代
ナノは10億分の1。
3ナノメートルサイズの半導体を作ろうと世界中の半導体メーカーは独自の技術に力を注いでいる。
そこで欠かせない装置がASMLのEUV露光装置（フォトリソグラフィーマシン ）である。
今後の生産需要の追い風はまだ収まらないだろう。
5 ｎｍ世代以降まで微細化が予見される中、ASML は微細化に必須な次世代露光技術 EUV の
世界唯一のメーカーである。
ASMLの財務
純売上高に占める粗利益の割合は、2019年の44.7％から2020年には48.6％に増加。
売上総利益率の増加は、主にEUVの収益性の向上と、サービスおよびアップグレードの売上の増加によるもの。
設備投資が約15億ユーロになると予想される2021年まで続くとされる。
まとめ
- 半導体産業向けリソグラフィー装置の開発、製造、販売、関連サービスを世界的に手掛ける
- マイクロチップの製造に欠かせない複雑なリソグラフィーシステムを製造
- 露光装置主流の ArF液浸リソグラフィで首位
- ハードウェアとソフトウェアが出会い、シリコン上にパターンを大量生産するための包括的なアプローチを提供
- マイクロチップメーカーがチップを大量生産するために使用するフォトリソグラフィーマシンを製造
おわり
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